装置名
（機種）

電子線描画装置

設置年度

平成26年度

装置の概要

　電子線に感光する樹脂薄膜にナノメートルからマイクロメートルのパターンを描画する装置です。
　電子デバイス、光学デバイス、集積回路などの試作品の開発や、半導体チップの原盤となるマスクの作製に用いられます。

装置の仕様
・特色

仕様
　加速電圧：          50kV，30kV，20kV
　最小電子ビーム径：  2nm (於 50kV)
　描画最小線幅：      10nm (於 50kV)
　描画フィールドサイズ： 最大 1.5x1.5mm（3x3mm 於 20kV）                     　  最小 100μm x 100μm
　最大試料サイズ：    4インチφウエハーおよび□4インチマスク

特色
・静電型のビーム偏向器を改良し、1mm□の大面積フィールドに於いても、低歪みで均一な露光が可能。
・高精度リニアエンコーダを搭載し、ステージ位置とビーム位置へのフィードバックにより、つなぎ精度100nm（3σ）以下を実現。
・オート機能の充実により、ビーム調整や描画スタート時の煩わしい操作を大幅に簡略化

設置場所

コラボレーションセンター2階　208（クリーンルーム）

管理責任者

クリーンルームワーキンググループ
管理責任者
　自然科学研究科（工）林　靖彦（内線　8230）
監守者
　自然科学研究科（理）後藤秀徳（内線　7797）電子線描画装置 代表
　自然科学研究科（理）武安伸幸（内線　7845）FIB装置 代表
　自然科学研究科（理）久保園芳博（内線　7850）薄膜X線回折装置 代表
　自然科学研究科（工）林　靖彦（内線　8230）蒸着装置 代表
　医歯薬学研究科（薬）松浦 宏治（内線　8966）
　自然科学研究科（工）石川　篤（内線　8140）

利用資格等

平成27年度は、上記監守者メンバーおよびメンバーが承認した教員による試運転期間とする。（平成28年度から、学内共用予定）

利用の申請

未定

利用料金

未定