研究装置

試験機

電気油圧式疲労試験機((株)島津製作所,EHF-FB01)

荷重容量:動的 max.±500kgf
ピストンストローク:max.±25mm
波形の種類:サイン波,三角波,矩形波,ランプ波,ホールド波
周波数範囲:0.01~110Hz
ランプ波速度:0.001~110F.S/sec

電磁力式微小材料試験機((株)島津製作所,MMT-100NB-10)

通称:マイクロサーボ
荷重容量:動的 max.±150N
ピストンストローク:max.±10mm
波形の種類:サイン波,ハーバーサイン波,三角波,矩形波,ランプ波,ホールド波
周波数範囲:0.001~1000Hz
ランプ波速度:0.00001~100 R.F.S/sec

島津オートグラフ((株)島津製作所,AGS-Jシリーズ)

定格負荷容量:5kN
速度範囲:0.5~500mm/min
速度設定分解能:1mm/min(1~500mm/min)

デジタル計測制御式万能試験機((株)島津製作所,DSS-5000型)

最大荷重:5t

非接触式マイクロマテリアル用疲労試験機((株)山本金属製作所,Y926-00)

定格荷重:20N
周波数範囲:0.05~10Hz

引張・圧縮小型材料試験機(手動式)((株)井元製作所,IMC-90F1型)

定格容量:5kN

油圧式耐圧試験機((株)東京衡機製作所,CM-100C(動力計:TK-10A))

最大荷重:100t
5段切替:5,10,20,50,100t

油圧式疲労試験機((株)島津製作所,サーボペットLab-5)

試験荷重範囲:-50~50kN

顕微鏡

デジタルホログラフィック顕微鏡(Lyncee Tec社,R1000)

特徴:試料表面の3次元凹凸を取得できる
垂直分解能:0.2nm
対物レンズ:5x,20x,50x,100x

デジタルホログラフィック顕微鏡(Lyncee Tec社,R1100)

特徴:試料表面の3次元凹凸を取得できる
垂直分解能:0.2nm
対物レンズ:5x,20x,50x,100x

走査型電子顕微鏡((株)日立製作所,S-3500N形)

特徴:EBSDによる結晶方位測定可能
反射電子分解能(低真空モード):4.5nm
2次電子分解能:3.0nm
倍率:15~30万倍
最大試料サイズ:φ150mm

走査型共焦点レーザー顕微鏡(オリンパス(株),OLS5100)

特徴:試料表面の3次元凹凸を取得できる
垂直分解能:0.5nm
平面分解能:1nm

システム工業顕微鏡(オリンパス(株),BX41M-LED)

接眼レンズ:x10
対物レンズ:x5,x10,x20,x50
可能観察法:落射明視野,落射簡易偏光

システム実体顕微鏡(オリンパス(株),SZX7)

総合倍率(10X接眼レンズ使用時):4x~112x
可能観察法:落射蛍光,簡易偏光,明視野,暗視野

マクロスコープ(ライカ マイクロシステムズ(株),Z16 APO)

総合倍率:7.1~115x
分解能:51~339LP/mm
観察により識別可能な解像線幅:2.98~19.6μm
視野径:1.83~29.5m
焦点深度:0.05~3.8mm

デジタルファインスコープ(オムロン(株))

倍率:350,700,1750,2800,3500

電気炉

真空電気炉(自作)

特徴:高真空引き可能,炉内温度保持・モニタリング可能

超精密小型真空雰囲気炉(フルテック(株),FT-01VAC-50)

最高温度:1200℃
特徴:ガス封入可能

1100℃ボックス炉(光洋リンドバーグ(株),KBF728)

加熱方式:電気抵抗加熱
炉内寸法:310×325×450mm
最高温度:1100℃

その他

加熱・冷却プレス(水冷仕様)((株)井元製作所,IMC-11D6型)
試料打抜機((株)井元製作所,IMC-1949型)

<プレス機>
温度:室温~300℃
出力:10ton
<打抜機>
刃物寸法:100×25mm
ストローク:約30mm

イオンコーター((株)エイコー・エンジニアリング,IB-5型)

使用モード:DCスパッタコーティング,DCスパッタエッチング,クリーニング
イオン化電圧:0~3000V DC(連続可変)
イオン化電流:10mA(電流計付)
電極間隔:35,45,55,80mm(4段階可変)
動作真空度:0.05~0.2Torr(低真空側リミットスイッチ付)

金属用ミニ・ラボカッター((株)マルトー,MC-112)

加工能力:MAX30mm
テーブル作業面積:W120×L130mm
冷却方式:貯水巻上げ式(水位計付)
使用砥石サイズ:200D(150D・125D)×30H mm

ラボシステム研磨琢磨機(丸本ストルアス(株),LaboPol-1,LaboForce-1)

回転速度(研磨盤側):250rpm
回転速度(試料側):10rpm

振動研磨機(ヴァーダー・サイエンティフィック(株),Saphir Vibro)

振動数:60~120Hz
研磨布:直径300mm

電解研磨装置

直流電源装置,スターラー,各種薬品等
特徴:金属試験片の表面を鏡面状態にするとともに,酸化膜や加工変質層の除去ができる

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